技術特點
火焰水解法制備高純度合成石英
在潔淨廠房内,将高規格四氯化矽(SiCl4)在氫氧焰中水解生成亞微米二氧化矽(SiO2)顆粒,一個或者
多個用于反應地噴燈将亞微米顆粒堆積成柱狀粉末體(soot),精确的火焰溫度控制和摻雜工藝實現柱體
徑向合軸向均勻的密度分布合預訂的折射率分布。
粉末體在氯氣(Cl2)合氦氣(He)的加熱爐内被充分脫水除雜,然後燒結成高純度透明玻璃預制棒。
氣相軸向沉積工藝制備芯棒
軸向生長粉末體,燒結時無中心縮合孔,具備四大工藝中最低的羟基含量,可制備零水峰光纖;
氟摻雜工藝,降低芯層二氧化鍺含量, 具備更低的本征損耗
自主知識産權多噴燈技術,豐富折射率剖面設計,可制備G652,G657以及G655系列光纖。
外部氣相沉積工藝制備包層
高沉積速率,大尺寸。
延伸技術
實現預制棒芯棒芯,包層直徑的精确控制,光纖幾何,光學指标同一性更好。
産品種類
具有滿足G. 652 D,G657A1, G657A2 以及G655拉絲生産的光纖預制棒系列。
關鍵技術指标
具有不同平均外徑和有效長度的光纖預制棒,平均外徑從90~200mm, 有效長度從1000mm到3000mm;
光纖産品指标達到并優于ITU-T标準;
VAD芯棒技術使光纖在1383nm基本無附加吸收,達到零水峰光纖制作要求。